| 专利名称 | 气相沉积设备的进气喷淋头 | 申请号 | CN201920622058.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN210104071U | 公开（授权）日 | 20200221 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所;南京佑天金属科技有限公司 | 发明（设计）人 | 魏鸿源;杨少延;陈怀浩;魏洁 | 主分类号 | C23C16/455 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 气相沉积设备的进气喷淋头 至气相沉积设备的进气喷淋头 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障