| 专利名称 | 二次成像光学光刻方法和设备 | 申请号 | CN201711316102.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109901362A | 公开（授权）日 | 20190618 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;王彦钦;孔维杰;高平;赵泽宇 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 二次成像光学光刻方法和设备 至二次成像光学光刻方法和设备 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障