| 专利名称 | 一种动态受控电弧离子镀弧源 | 申请号 | CN200710159289.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101358328A | 公开（授权）日 | 20090204 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 肖金泉;郎文昌;孙超;宫骏;杨英;赵彦辉;杜昊;闻立时 | 主分类号 | C23C14/32 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种动态受控电弧离子镀弧源 至一种动态受控电弧离子镀弧源 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障