| 专利名称 | 一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料处理工艺 | 申请号 | CN02138625.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1270970C | 公开（授权）日 | 20040602 | 申请（专利权）人 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 发明（设计）人 | 陈俊凌 | 主分类号 | C01B31/04 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料处理工艺 至一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料处理工艺 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障