| 专利名称 | 一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途 | 申请号 | CN201711473665.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109988507A | 公开（授权）日 | 20190709 | 申请（专利权）人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 刘卫丽;王光灵;霍军朝;刘宇翔;宋志棠 | 主分类号 | C09G1/02 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途 至一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障