| 专利名称 | 待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置 | 申请号 | CN201910063140.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109656094A | 公开（授权）日 | 20190419 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王亮;秦金;罗慧雯 | 主分类号 | G03F1/38 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置 至待光刻基板、光刻模板、近场扫描光刻方法及装置 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障