一种应用于中子散射实验的分离超导磁体结构

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专利名称 一种应用于中子散射实验的分离超导磁体结构 申请号 CN201810842764.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN108956666A 公开(授权)日 20181207 申请(专利权)人 中国科学院合肥物质科学研究院 发明(设计)人 郭永超;朱思华;谭运飞;陈文革;程翔宇;陈治友;匡光力;江诗礼;钱新星;房震;蒋冬辉;黄鹏程;郑遥路;邹贵弘 主分类号 G01N23/202 IPC主分类号 专利有效期 一种应用于中子散射实验的分离超导磁体结构 至一种应用于中子散射实验的分离超导磁体结构 法律状态 说明书摘要

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