| 专利名称 | 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 | 申请号 | CN201510708221.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105220122B | 公开（授权）日 | 20160106 | 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 | 主分类号 | C23C14/35 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 至具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障