降低线条粗糙度的光刻方法

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专利名称 降低线条粗糙度的光刻方法 申请号 CN201210395430.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103777466A 公开(授权)日 20140507 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 孟令款;贺晓彬;李春龙 主分类号 G03F7/20 IPC主分类号 专利有效期 降低线条粗糙度的光刻方法 至降低线条粗糙度的光刻方法 法律状态 说明书摘要

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