| 专利名称 | 一种适用于投影光刻系统的检焦系统 | 申请号 | CN201010231322.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101916040B | 公开（授权）日 | 20101215 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 陈旺富;胡松;严伟;陈铭勇;周绍林;徐锋;李金龙;谢飞 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种适用于投影光刻系统的检焦系统 至一种适用于投影光刻系统的检焦系统 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障