表面增强拉曼散射基底的制备方法

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专利名称 表面增强拉曼散射基底的制备方法 申请号 CN200710042776.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101140234B 公开(授权)日 20080312 申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 周增会;程亚;徐剑;徐至展 主分类号 G01N21/65 IPC主分类号 专利有效期 表面增强拉曼散射基底的制备方法 至表面增强拉曼散射基底的制备方法 法律状态 说明书摘要

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