| 专利名称 | 测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 | 申请号 | CN201010292164.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101979995B | 公开（授权）日 | 20110223 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 顿爱欢;魏劲松;干福熹 | 主分类号 | G01N3/28 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 至测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障