| 专利名称 | 一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法 | 申请号 | CN200810104088.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101261454B | 公开（授权）日 | 20080910 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 王长涛;徐挺;史立芳;赵延辉;崔建华;杜春雷;罗先刚 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法 至一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障