| 专利名称 | 一种40nm以下尺寸的器件的化学机械平坦化的工艺方法 | 申请号 | CN201410146689.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104979277B | 公开（授权）日 | 20151014 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 杨涛;卢一泓;张月;崔虎山;赵超;李俊峰 | 主分类号 | H01L21/768 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种40nm以下尺寸的器件的化学机械平坦化的工艺方法 至一种40nm以下尺寸的器件的化学机械平坦化的工艺方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
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2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障