| 专利名称 | 一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法 | 申请号 | CN201510591739.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105116691B | 公开（授权）日 | 20151202 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 刘卫静;廖志杰;邢廷文;林妩媚 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法 至一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障