| 专利名称 | 极紫外光刻含相位型缺陷接触孔掩模衍射谱的快速仿真方法 | 申请号 | CN201510273829.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104880915B | 公开（授权）日 | 20150902 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 管文超;王向朝;李思坤;张恒 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 极紫外光刻含相位型缺陷接触孔掩模衍射谱的快速仿真方法 至极紫外光刻含相位型缺陷接触孔掩模衍射谱的快速仿真方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障