专利名称 | 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法 | 申请号 | CN200710046015.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN100469531C | 公开(授权)日 | 20080220 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 陈光珠;杭寅;兰志成;李志鸿;华如江;张连翰;何明珠;李抒智;杨卫桥 | 主分类号 | B24B37/04 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法 至氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
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