| 专利名称 | 一种真空开关用低偏析铜铬触头的制备方法 | 申请号 | CN02131363.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1489162A | 公开（授权）日 | 20040414 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 郑志;朱耀霄;马凯;刘文礼;梁殿清;王柏华;苗小丹 | 主分类号 | H01H11/04 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种真空开关用低偏析铜铬触头的制备方法 至一种真空开关用低偏析铜铬触头的制备方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障