| 专利名称 | 利用飞秒激光刻蚀的多层金属网栅电磁屏蔽光窗及其制备方法 | 申请号 | CN201910054118.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109769387A | 公开（授权）日 | 20190517 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 董红星;张亚强;张龙;姜雄伟;牟南历 | 主分类号 | H05K9/00 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 利用飞秒激光刻蚀的多层金属网栅电磁屏蔽光窗及其制备方法 至利用飞秒激光刻蚀的多层金属网栅电磁屏蔽光窗及其制备方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障