| 专利名称 | 一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统 | 申请号 | CN200410009403.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN100510964C | 公开（授权）日 | 20060208 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 张锦;冯伯儒;刘娟 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统 至一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障