| 专利名称 | 一种基于聚焦评价算法的结构光微纳三维形貌测量方法 | 申请号 | CN201910972508.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN110715616A | 公开（授权）日 | 20200121 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 刘磊;唐燕;谢仲业;位浩杰;赵立新;胡松 | 主分类号 | G01B11/24 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种基于聚焦评价算法的结构光微纳三维形貌测量方法 至一种基于聚焦评价算法的结构光微纳三维形貌测量方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障