| 专利名称 | 一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置 | 申请号 | CN201910363334.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109972095A | 公开（授权）日 | 20190705 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 彭钦军;申玉;杨峰;袁磊;薄勇 | 主分类号 | C23C14/30 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置 至一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障