| 专利名称 | 一种超薄光学薄膜衬底硅片的清洗方法 | 申请号 | CN201610204422.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105845554B | 公开（授权）日 | 20160810 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 赵娇玲;贺洪波;王虎;朱美萍;崔云 | 主分类号 | H01L21/02 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种超薄光学薄膜衬底硅片的清洗方法 至一种超薄光学薄膜衬底硅片的清洗方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
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2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障