| 专利名称 | 多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法 | 申请号 | CN201510922190.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105388545B | 公开（授权）日 | 20160309 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李晓天;卢禹先;于海利;唐玉国;马振予;齐向东;糜小涛;于宏柱;张善文;巴音贺希格 | 主分类号 | G02B5/18 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法 至多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障