| 专利名称 | 一种精密抛光晶片用有机物清洗液 | 申请号 | CN200510086960.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1970714A | 公开（授权）日 | 20070530 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 朱蓉辉;惠峰;卜俊鹏;郑红军 | 主分类号 | C11D7/26 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种精密抛光晶片用有机物清洗液 至一种精密抛光晶片用有机物清洗液 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障