| 专利名称 | 用于激光直写的TeOX基薄膜材料及其制备方法 | 申请号 | CN201010169391.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101845608A | 公开（授权）日 | 20100929 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 王小勇;耿永友;顾冬红 | 主分类号 | C23C14/00 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 用于激光直写的TeOX基薄膜材料及其制备方法 至用于激光直写的TeOX基薄膜材料及其制备方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障