| 专利名称 | 在图形化的半导体衬底上制作有序半导体纳米结构的方法 | 申请号 | CN201010140985.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101840852A | 公开（授权）日 | 20100922 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 陈涌海;刘建庆;高云;徐波;张兴旺;王占国 | 主分类号 | H01L21/02 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 在图形化的半导体衬底上制作有序半导体纳米结构的方法 至在图形化的半导体衬底上制作有序半导体纳米结构的方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障