多孔膜厚度与孔隙率二维分布测定方法

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专利名称 多孔膜厚度与孔隙率二维分布测定方法 申请号 CN201811228419.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN109141260A 公开(授权)日 20190104 申请(专利权)人 中国科学院电子学研究所 发明(设计)人 祁志美;刘紫威;高然;张萌颖;赵敏;尹涛 主分类号 G01B11/06 IPC主分类号 专利有效期 多孔膜厚度与孔隙率二维分布测定方法 至多孔膜厚度与孔隙率二维分布测定方法 法律状态 说明书摘要

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