| 专利名称 | 一种能使降解支架在X光下显影的标记及其制备方法 | 申请号 | CN201610080118.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107029306A | 公开（授权）日 | 20170811 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 唐明强;张炳春;郑丰;陈姗姗;杨柯 | 主分类号 | A61L31/18 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种能使降解支架在X光下显影的标记及其制备方法 至一种能使降解支架在X光下显影的标记及其制备方法 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障