| 专利名称 | 一种高气压微波等离子体激励装置 | 申请号 | CN00211865.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN2425475Y | 公开（授权）日 | 20010328 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 杨永进;张劲松;张军旗;曹小明 | 主分类号 | H05H1/30 | IPC主分类号 | 专利有效期 | 一种高气压微波等离子体激励装置 至一种高气压微波等离子体激励装置 | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障