| 专利名称 | 一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法 | 申请号 | CN201711461422.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108169827A | 公开（授权）日 | 2018.06.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 邓文渊;李春;金春水;姚舜 | 主分类号 | G02B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/00(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法 至一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法，所述制备方法包括：获取所述深紫外波段宽带分束薄膜中膜层的目标沉积厚度；依据所述目标沉积厚度，对所述膜层进行实验沉积；在所述膜层沉积完成后，获取所述膜层的测量误差值；依据所述目标沉积厚度和所述测量误差值，获取所述膜层的实际沉积厚度；依据所述实际沉积厚度，对所述膜层进行沉积。所述制备方法消除了各个膜层沉积过程中产生的热扰动所导致的晶振厚度测量误差对深紫外波段宽带全介质分束薄膜性能产生的影响。 1 |
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