| 专利名称 | 一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法 | 申请号 | CN201711096951.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107899891A | 公开（授权）日 | 2018.04.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 巴音贺希格;李烁;宋莹;李文昊;刘兆武;王玮;吕强 | 主分类号 | B05C11/10(2006.01)I | IPC主分类号 | B05C11/10(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法 至一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于大面积光栅制造的涂布装置及一种涂布方法。本发明公开的用于大面积光栅制造的涂布装置包括：基片运动模块、涂布模头模块、升降模块、液体循环模块和基片调整模块。该涂布装置具有涂布膜层厚度范围广，涂布液体利用率高、膜厚均匀性好、对基片形状尺寸敏感度低等显著优点，可满足米级尺寸光栅高均匀性、亚微米厚度薄膜涂布。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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