| 专利名称 | 可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体 | 申请号 | CN201811044919.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN109167245A | 公开（授权）日 | 2019.01.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 程光华;张国栋;赵卫 | 主分类号 | H01S3/11(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S3/11(2006.01)I;H01S3/098(2006.01)I;H01S3/106(2006.01)I | 专利有效期 | 可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体 至可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及激光器的可饱和吸收体，针对现有可饱和吸收体导热性差、稳定性低、光谱响应窄、制备工艺复杂、工作寿命短、生产成本高等问题，而提供一种可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体。其中，可饱和吸收体制备方法，包括以下步骤：1)将二维纳米材料分散于分散液中，进行超声处理，得到二维纳米材料分散液；2)将多孔玻璃放置于二维纳米材料分散液中，在超声条件下进行筛选吸附，形成多孔玻璃与二维纳米材料复合体；3)将多孔玻璃与二维纳米材料复合体取出，干燥；4)对经过干燥处理后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体退火；5)对退火后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行切割，抛光，得到可饱和吸收体。 |
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