| 专利名称 | 一种阻性类金刚石碳基薄膜材料的制备方法 | 申请号 | CN201810369646.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108707863A | 公开（授权）日 | 2018.10.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 尚伦霖;周意;吕游;张广安;鲁志斌;刘建北 | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种阻性类金刚石碳基薄膜材料的制备方法 至一种阻性类金刚石碳基薄膜材料的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种阻性类金刚石碳基薄膜材料的制备方法，该方法适合于采用非平衡直流磁控溅射沉积技术在微结构气体探测器电极基体表面依次通过高能等离子体轰击、刻蚀和溅射高纯石墨靶材而制备类金刚石碳基薄膜材料。通过本发明方法不仅可以制备出厚度均匀性好、膜基结合力强的类金刚石碳基薄膜材料，同时可以调控类金刚石碳基薄膜的面电阻率。本发明方法所制备的阻性类金刚石碳基薄膜材料适合用于制作微结构气体探测器的阻性电极，具有很好的应用前景和价值。 |
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