取样劈板的取样率及取样均匀性干涉测量系统及方法

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专利名称 取样劈板的取样率及取样均匀性干涉测量系统及方法 申请号 CN201810253356.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN108548660A 公开(授权)日 2018.09.18 申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 达争尚;高立民;陈永权;李红光 主分类号 G01M11/02(2006.01)I IPC主分类号 G01M11/02(2006.01)I 专利有效期 取样劈板的取样率及取样均匀性干涉测量系统及方法 至取样劈板的取样率及取样均匀性干涉测量系统及方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明属于取样劈板的取样率及取样均匀性干涉测量系统及方法,系统包括沿光路依次设置的缩束望远镜及自准反射镜;待测取样劈板位于缩束望远镜与自准反射镜之间;缩束望远镜输出平行激光,投射至待测取样劈板的取样反射面取样,部分激光被待测取样劈板的取样反射面反射至缩束望远镜;另一部分激光透过待测取样劈板入射至自准反射镜,经自准反射镜反射后透过待测取样劈板进入缩束望远镜。解决了传统测量方法对于小份额取样率不易实现高的测量精度的问题。

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