| 专利名称 | 纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用 | 申请号 | CN201611257480.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108265272A | 公开（授权）日 | 2018.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 刘二勇;曾志翔;王刚;李龙阳;蒲吉斌;王立平 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 专利有效期 | 纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用 至纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用。所述涂层包括直流反应溅射氮化硅层和射频溅射氮化硅层交替层叠形成的多层结构。所述涂层的制备方法包括：以单晶硅靶和/或氮化硅靶作为阴极，以惰性气体及氮气作为工作气体，采用直流反应溅射技术和射频溅射技术在基材上沉积形成所述纳米多层氮化硅陶瓷涂层，所述纳米多层氮化硅陶瓷涂层包括交替层叠的直流反应溅射氮化硅层和射频溅射氮化硅层。本发明的纳米多层氮化硅陶瓷涂层与多孔陶瓷基材等结合性良好，且具有结构致密、厚度可控、高硬度、低内应力、无宏观缺陷等优势，可应用于各种介质的精密过滤与分离、高温透波/吸波、电解隔膜等多种领域。 |
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