| 专利名称 | 一种集成偏振光栅制备系统及方法 | 申请号 | CN201810092440.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108227063A | 公开（授权）日 | 2018.06.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 彭伏平;杨帆;李凡星;田鹏;严伟 | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/30(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种集成偏振光栅制备系统及方法 至一种集成偏振光栅制备系统及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种集成偏振光栅制备系统及方法，利用激光双光束干涉原理，结合空间光场调制技术，通过一次曝光或多次曝光实现大面积集成化偏振光栅的快速纳米尺度加工。其方法包括：利用数字微镜元件实现光线的选通，并同时实现对一路光(调制光)振幅的调制，利用一组相互平行的反射镜控制另一路光(参考光)的入射方向，通过旋转这组相互平行的反射镜，可控制参考光和调制光的空间角以及干涉条纹的方向。这为获得不同周期不同角度的偏振光栅提供了基础。通过本发明的偏振光栅制备方法，可实现在光刻胶上大面积制作不同周期的偏振光栅。 |
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