| 专利名称 | 一种制冷CCD真空杜瓦密封装置 | 申请号 | CN201711329840.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108087555A | 公开（授权）日 | 2018.05.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 聂山钧;王明富;高晓东;廖靖宇 | 主分类号 | F16J15/28(2006.01)I | IPC主分类号 | F16J15/28(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制冷CCD真空杜瓦密封装置 至一种制冷CCD真空杜瓦密封装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种制冷CCD真空杜瓦密封装置，包括底座、上盖、螺杆、弹簧、橡胶圈及杜瓦。将真空计和真空泵连接到底座上；杜瓦内部器件组装好后，将杜瓦底座和杜瓦上盖放置在底座中，用弹簧将杜瓦上盖撑起使之与杜瓦底座之间留有一定的间隙；螺杆与上盖用橡胶圈设计为动密封，然后用橡胶圈将上盖与底座进行密封；用真空泵将腔体抽真空，预排气一段时间后通过螺杆拧紧杜瓦上的紧固螺栓，以此用银丝将杜瓦上盖与杜瓦底座进行密封，从而保证杜瓦内部的高真空度。该密封方式具有结构简单、漏率低且可拆卸的优点。该系统适用于制冷型CCD相机制冷领域。 |
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