| 专利名称 | 一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法 | 申请号 | CN201711436174.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108073014A | 公开（授权）日 | 2018.05.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 李朝辉;赵建科;徐亮;刘峰;李晓辉;于敏;张玺斌;伍建军 | 主分类号 | G03B11/04(2006.01)I | IPC主分类号 | G03B11/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法 至一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于光学系统杂散光抑制设计领域，涉及到一种基于杂散光抑制角的挡光环设置方法。该设置方法主要依据遮光罩内壁喷涂的消光漆属性，以及整个光学系统的最小杂散光抑制角，通过合理的设计布置，达到在抑制角处点源透过率PST值最小的目的。本发明先确定遮光罩内壁喷消光黑漆类型，然后对该类型的消光黑漆表面属性进行测试，根据测试结果获得不同入射角度条件下消光黑漆的吸收属性，选取消光黑漆吸收率最高条件下的入射角度α，作为挡光环的倾斜参考角度，在一级挡光环的环尖坐标点A确定之后，将挡光环倾斜角度β设置为90°?(α+θ)，即可获得该抑制角下最优的PST数值。 |
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