| 专利名称 | 一种用于纳米位移测量的修正方法 | 申请号 | CN201711370214.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108036729A | 公开（授权）日 | 2018.05.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 何渝;冯金花;刘俊伯;谷林 | 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于纳米位移测量的修正方法 至一种用于纳米位移测量的修正方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于纳米位移测量的修正方法，该方法对光栅偏振调制纳米位移测量方法的计算模型进行了修正，通过高精度纳米位移台进行扫描标定，拟合计算确定修正模型的参数，再应用最优化算法得出位移量。本方法综合考虑了测量系统中的光学成像光强变化、光栅周期的不一致性以及电信号处理过程非线性的误差，更加符合测量系统的实际工程使用情况，测量准确性更高。 |
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