| 专利名称 | 一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法 | 申请号 | CN201710950101.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107884339A | 公开（授权）日 | 2018.04.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 万雄;王泓鹏;袁汝俊;张铭;何强 | 主分类号 | G01N21/01(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/01(2006.01)I;G01N21/27(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I | 专利有效期 | 一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法 至一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法，该方法是在一种自适应激光光谱及成像探测系统上实现的，该方法包括预期焦斑自适应聚焦标定、探测对象单点紧聚焦、拉曼荧光及成像信息获取、拉曼荧光成像扫描微区分析、LIBS扫描微区分析及信息融合等五个步骤。本发明的有益效果是，提供了一种自适应激光光谱及成像探测方法，可在微区分析时自适应地调整聚焦光斑的直径；将电子目镜的区域平均灰度作为扫描成像点强度，同时满足自聚焦和宽谱扫描成像的要求；可同时实现三维空间LIBS元素分析、主动激光拉曼分子分析、高光谱荧光、可见宽谱扫描成像，提供多种信息以进行微区精细探测。 |
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