| 专利名称 | 一种纳米线条的修复方法 | 申请号 | CN201610866043.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107887258A | 公开（授权）日 | 2018.04.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 黄洛俊;景玉鹏;康恒;李勇滔 | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/027(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种纳米线条的修复方法 至一种纳米线条的修复方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及半导体微纳结构制造技术领域，具体涉及一种纳米线条的修复方法，所述方法包括如下步骤：将具有光刻胶纳米线条的硅片放在电子显微镜下观察是否有坍塌或粘连的光刻胶纳米线条；将有坍塌或粘连的光刻胶纳米线条的硅片放在兆声波发生器的支架上，将去离子水放入所述兆声波发生器的容器中；所述兆声波发生器在设定工作时间结束后，取出所述硅片并干燥，即可获得修复后的光刻胶图形。本发明中的兆声波发生器发出高频振荡信号，能使液体分子做加速运动并具有直流推进和空化作用，可以使坍塌或者粘连的纳米细线条发生形态变化，打破原来坍塌或者粘连的状态，大部分坍塌或者粘连的纳米细线条得以复原，达到修复的效果。 |
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