| 专利名称 | 一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法 | 申请号 | CN201710791688.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107675120A | 公开（授权）日 | 2018.02.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明（设计）人 | 牛亚然;翟翠红;赵君;李红;郑学斌;孙晋良;丁传贤 | 主分类号 | C23C4/134(2016.01)I | IPC主分类号 | C23C4/134(2016.01)I;C23C4/10(2016.01)I;C23C4/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法 至一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法，以硅粉为原料，采用等离子体喷涂技术在钼或钼合金基体表面制备硅涂层，然后置于惰性气氛中在1000～1500℃下热处理1～10小时，从而在钼或钼合金基体表面形成硅化钼涂层。该制备方法具有工艺简单、成本低、效率高、可重复性好、适合规模化生产等优点。 |
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