| 专利名称 | 一种磁共振投影成像方法及装置 | 申请号 | CN201710647398.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107621616A | 公开（授权）日 | 2018.01.23 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 刘文韬;曹玉鹏;韩东 | 主分类号 | G01R33/48(2006.01)I | IPC主分类号 | G01R33/48(2006.01)I;G01R33/561(2006.01)I;G01R33/565(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁共振投影成像方法及装置 至一种磁共振投影成像方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种磁共振投影成像方法及装置，所述方法包括，用非选层脉冲将磁化矢量激发到磁场空间的横平面；用系统允许最大梯度爬坡速率打开相位编码梯度，同时用系统允许最大梯度爬坡速率打开读出预散相梯度；当相位编码达到k空间对应的预设位置时且读出预散相也达到k空间对应的预设位置时，关闭相位编码梯度和读出预散相梯度；在相位编码和读出预散相都完成之后，用系统允许最大梯度爬坡速率打开读出梯度；在读出梯度爬升至平台期之后，采集信号；在读出方向和层方向同时打开相位打散梯度。本发明提供的磁共振投影成像方法及装置，实现一次直接完成投影成像，加速了扫描速度，提高了投影成像的时间分辨率，抑制了由于运动引起的图像伪影。 |
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