| 专利名称 | 利用离子溅射法制备检测基板膜的方法 | 申请号 | CN201710824974.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107620036A | 公开（授权）日 | 2018.01.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 发明（设计）人 | 孔明光;吴兵;刘玲 | 主分类号 | C23C14/18(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/18(2006.01)I;C23C14/46(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I | 专利有效期 | 利用离子溅射法制备检测基板膜的方法 至利用离子溅射法制备检测基板膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种利用离子溅射法制备检测基板膜的方法，属于颗粒膜制备技术领域，包括：1)将检测基板表面进行酸洗，作为基片；2)对离子溅射仪进行矫正，预设目标银颗粒膜粒径；3)采用离子溅射的方法以银靶材为初始材料，在基片衬底上蒸镀银颗粒膜，设置初始蒸镀时间，确定基片上实际银颗粒膜粒径；4)判定若实际银颗粒膜粒径小于目标银颗粒膜粒径，执行步骤5)，否则执行步骤6)；5)在初始蒸镀时间基础上增加蒸镀时间，重新蒸镀银靶材，并测定实际银颗粒膜粒径，并重复步骤4)；6)判定银颗粒膜是否合格。该离子溅射法根据银颗粒膜在不同的蒸镀时间下测定银颗粒的峰位，从而确定精准的银颗粒膜粒径，以便提高检测基板膜检测的准确性。 |
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