| 专利名称 | 光电经纬仪光学系统变形测试系统 | 申请号 | CN201821544393.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN208921103U | 公开（授权）日 | 2019.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 赵怀学; 周艳; 田留德; 赵建科; 薛勋; 潘亮; 胡丹丹; 刘艺宁; 张洁; 曹昆; 李坤; 赛建刚; 昌明 | 主分类号 | G01C1/02 | IPC主分类号 | G01C1/02; G01C25/00 | 专利有效期 | 光电经纬仪光学系统变形测试系统 至光电经纬仪光学系统变形测试系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及光学系统变形量测试领域，具体涉及一种光电经纬仪光学系统变形测试系统。系统仅由目标模拟器及夹持机构组成，测试时，将目标模拟器通过夹持机构固定在待测光电经纬仪上，每调整一次光电经纬仪的俯仰角度，记录一次目标脱靶量，最后通过最小二乘法拟合光电经纬仪指向精度系统误差修正曲线，旨在实现光电经纬仪在不同俯仰角下，光学系统方位和俯仰方向变形量的连续采样和高精度测量，提高光电经纬仪指向精度。 |
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