| 专利名称 | 一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法 | 申请号 | CN201710093762.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108456884A | 公开（授权）日 | 2018.08.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 董凯辉;宋影伟;单大勇;韩恩厚 | 主分类号 | C23C28/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C28/04(2006.01)I;C23C22/60(2006.01)I;C23C22/42(2006.01)I;C23G1/12(2006.01)I | 专利有效期 | 一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法 至一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及镁合金表面处理领域，具体地说是一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法。该前处理主要包括前置处理，均匀化处理以及均匀化后处理三步。前置处理可以去除基体表面存在的油脂和污物，并在镁合金α基体相上形成一层薄的保护膜；均匀化处理工序可以使基体表面存在较大尺寸的第二相优先发生溶解，随后的均匀化后处理过程可以去除表面残留的盐类晶粒和氧化皮，并起到一定活化的作用。经过本发明方法处理后的样品在转化膜溶液中基体表面形核更均匀，晶粒分布更紧密，提高膜层整体的耐腐蚀性能，解决了镁合金表面由于第二相的影响导致其初期成膜不均匀的问题。 |
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