| 专利名称 | 光刻机匹配方法 | 申请号 | CN201711321257.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108170006A | 公开（授权）日 | 2018.06.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 李思坤;茅言杰;王向朝;杨朝兴 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机匹配方法 至光刻机匹配方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机匹配方法，以三维空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过同步调谐光刻机的照明系统和投影物镜可调参数，利用阻尼最小二乘优化算法求解可调参数的值，实现光刻机快速匹配。本发明提高了现有方法的匹配精度，增大了工艺窗口，适用于具有自由照明系统的浸没式光刻机之间的匹配。 1 |
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