| 专利名称 | 一种用于点源透射比测试的光陷阱系统 | 申请号 | CN201710896272.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107830992A | 公开（授权）日 | 2018.03.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 曹智睿;董吉洪 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I;G02B17/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于点源透射比测试的光陷阱系统 至一种用于点源透射比测试的光陷阱系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明实施例公开一种用于点源透射比测试的光陷阱系统，该光陷阱系统采用四个散射面组成测试环境，并在测试环境侧边另设两个散射面而形成腔体，在预定散射面上开设通光口，等腰三角形棱柱散射面的底边紧贴该预定散射面，使得散射面覆盖待测系统的物方视场。本发明实施例所提供的光陷阱系统中背景环境杂散光至少经过六次内壁反射才能返回待测系统的成像视场，具有良好的杂散光抑制效果，从而能达到10?10量级的测试精度。本发明实施例所提供的光陷阱系统结构紧凑，从而工程实现难度低且成本低。 |
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