| 专利名称 | 长行程、高精度测量的光栅位移测量系统 | 申请号 | CN201710735473.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107655411A | 公开（授权）日 | 2018.02.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李文昊;吕强;巴音贺希格;宋莹;刘兆武;王玮 | 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 长行程、高精度测量的光栅位移测量系统 至长行程、高精度测量的光栅位移测量系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种长行程、高精度测量的光栅位移测量系统，包括：三个高刻线密度光栅，所述三个高刻线密度光栅呈“品”字形布设形成测量光栅，位于上侧的所述高刻线密度光栅的左端承载于位于左侧的所述高刻线密度光栅的右端，右端承载于位于右侧的所述高刻线密度光栅的左端，且每两个所述高刻线密度光栅的重叠部分中，槽与槽相对应，脊与脊相对应。本发明是一种体积小，易于安装，用于精密加工领域工作台位移测量可以大大降低对环境的控制成本，提升系统性能。 |
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